ポアカバーリングベースT PL

Tゾーン用化粧下地
PORELESS LABO
PORE COVERINGBASE T PL
s_cl_2-02 s-cl_2-01 「テカリ・凸凹・黒ずみ補正」
毛穴をカバーする
Tゾーン用化粧下地

メイク崩れしやすいTゾーン用の化粧下地です。Tゾーンのイヤな皮脂テカリを抑え、1日サラッと気持ちの良い状態に。メイク効果で、特に気になる鼻の凸凹毛穴をフラットに補整しファンデーションの毛穴落ちを防ぎます。さらに、黒ずみ毛穴も色補整によりカバー
ポアカバーリングベースT PL
30g / 2,800円(税別)


ご使用方法
●スキンケアの後、適量をTゾーンに塗布してください。その上からお顔全体に、お手持ちの化粧下地とファンデーションを重ねて塗布してください。
※厚く重ねすぎると、よれる場合があります。

成分
ジメチコン、シクロペンタシロキサン、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、シリカ、メタクリル酸メチルクロスポリマー、PEG-10ジメチコン、(アクリレーツ/メタクリル酸ポリトリメチルシロキシ)コポリマー、流紋岩末、アーチチョーク葉エキス、ヨモギ葉エキス、カミツレエキス、アセロラエキス、アスコルビルグルコシド、カッコンエキス、トウキンセンカ花エキス、ヨーロッパシラカバ樹皮エキス、サガラメエキス、トウヒエキス、オタネニンジンエキス、水添レチノール、ローズ水、シソエキス、シャクヤクエキス、ツボクサエキス、トコフェロール、BG、スクワラン、トリ(カプリル酸/カプリン酸)グリセリル、水、メタケイ酸アルミン酸Mg、(ビニルジメチコン/ラウリルジメチコン)クロスポリマー、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルヘキシルジメチコン、酸化鉄、フェノキシエタノール

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